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            打破壟斷!首臺國產12英寸超精密晶圓減薄機正式出機
            作者:管理員    發布于:2021-10-08 09:02:45    文字:【】【】【
            摘要:近日,由清華大學教授帶隊自主研發的首臺12英寸超精密晶圓減薄機正式下線,目前已經發往國內某集成電路龍頭企業。

            據清華大學官方消息,近日,由清華大學機械系路新春教授帶領清華大學成果轉化項目公司華海清科研發的首臺12英寸(300mm)超精密晶圓減薄機(Versatile-GP300),已經正式出機,發往國內某集成電路龍頭企業。

            這是路新春教授團隊與華海清科解決我國集成電路拋光裝備“卡脖子”問題之后,又一突破性成果,將應用于3D IC制造、先進封裝等芯片制造大生產線,滿足12英寸晶圓超精密減薄工藝需求。

            12英寸超精密晶圓減薄機是集成電路制造不可或缺的關鍵裝備,復雜程度高,技術攻關難度大,市場準入門檻高,長期被國外廠商高度壟斷,國內市場嚴重依賴進口。

            為了突破減薄裝備領域的技術瓶頸,路新春教授帶領華海清科,利用在化學機械拋光領域的產業化經驗,集中力量開展超精密減薄理論與技術研究,攻克晶圓背面超精密磨削、平整度智能控制、表面損傷及缺陷控制系列核心技術,研制出首臺用于12英寸3D IC制造、先進封裝等領域晶圓超精密減薄機,解決該領域“卡脖子”問題。

            路新春教授團隊自2000年起開展化學機械拋光(CMP)基礎研究,承擔國家重大科技攻關任務十余項,成功孵化華海清科,并研制出我國第一臺12英寸“干進干出”CMP裝備及系列產品,整體技術達到國際先進水平,實現28nm工藝量產,并具備14-7nm工藝拓展能力,創造了多項國產裝備紀錄。

            該設備累計110余臺應用于先進集成電路制造大生產線,市占率、進口替代率均位居國產IC裝備前列。

            系列成果填補了國內空白,打破了國際巨頭壟斷,首次實現了國產拋光裝備的批量產業化應用。

            此外,路新春教授團隊還積極推進科研成果轉化,實現基礎研究和產業需求縱向貫通,孵化出華海清科,這是目前我國唯一一家12英寸CMP商業機型的高端半導體設備制造商。















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